mercoledì 15 dicembre 2010

Quale sarà la tecnologia a film sottile più utilizzata nei prossimi anni?

Su quale sarà la tecnologia a film sottile maggiormente utilizzata nei prossimi anni c’è molta discussione. “Alla fine - afferma Roland Scheer, esperto sul solare all’Istituto Hahn-Meitner (HMI) di Berlino - il prezzo deciderà tra le diverse tecnologie applicate oggi e nessuna presenta al momento limitazioni in termini di economia di scala”. Mentre per Paula Mints, della statunitense Navigant il silicio amorfo ha l’efficienza più bassa, tra il 6,5 e il 7% e con costi intorno ai due dollari Usa per Wp, ma è la tecnologia che risulterà più attraente per alcuni clienti. Molti produttori utilizzano il silicio amorfo, ma si sta sviluppando anche il Tellururo di Cadmio che possiede costi di fabbricazione più bassi, meno di 1,75 dollari per Wp, cosa che ha contribuito a superare la diffidenza iniziale che la presenza del Cadmio, potenzialmente tossico se disperso nell’ambiente, aveva suscitato tra gli operatori.

Problemi tecnologici, invece per il Diseleniuro di indio rame e il Diseleniuro di indio rame gallio, che possiedono oggi un’efficienza del 9% ma che pongono diversi problemi ai produttori, poiché sono ancora aperte questioni come la standardizzazione, la prevenzione dell’umidità per i moduli flessibili e l’uniformità della struttura.
In definitiva il mercato del film sottile sembra essere in movimento con un carico crescente di aspettative e interesse, superando lo sviluppo lento e le diffidenze degli anni passati.

Fonte: rivista Impianti Solari

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